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更新時間：2025-11-30
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VICI氣體純化器設(shè)備主要用于去除載氣或氣路中的特定雜質(zhì)，從而獲得超高純度的氣體，這對于許多高靈敏度分析儀器（如GC、GC-MS、HPLC等）的穩(wěn)定運行和準確結(jié)果至關(guān)重要。
適用范圍：
適用于各種惰性氣體和某些活性氣體，如 氮氣、氦氣、氬氣、氫氣 等。
廣泛應(yīng)用于氣相色譜、質(zhì)譜、核磁共振、光伏制造、半導體行業(yè)、實驗室研究等對氣體純度要求領(lǐng)域。
鄭州pg儀器現(xiàn)貨進口Valco氦氣純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器（NP2）同樣地作用于氮氣
Valco氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金，此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調(diào)控的特征設(shè)計，它保持吸附劑材料于溫度，消除了熱量流失的可能性
氦氣純化器
* 可純化氣體：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
* 操作壓強：1000 psig
* 可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質(zhì)烴。
* 未被去除雜質(zhì)：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
氮氣純化器
* 可純化氣體：只有N2
* 操作壓強：1000 psig
* 可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質(zhì)烴。
* 未被去除雜質(zhì)：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2
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